等離子處理中哪種頻率效果好？中頻？射頻？微波？

KHz，中頻產(chǎn)生等離子體能量大，主要是物理作用；

MHz，射頻產(chǎn)生等離子體能量和密度居中, 為物理和化學作用；

GHz，微波產(chǎn)生等離子體能量小，密度高，主要為化學作用；

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率運用：

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點在于本身不發(fā)生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響大，因而實際半導體生產(chǎn)應用中大多采用射頻等離子體清洗。而超聲等離子則應用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果超好。典型的等離子體物理清洗工藝是在反應腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。

激發(fā)頻率為13.56MHz的微波等離子體是典型的等離子體化學清洗工藝，是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。主要用于科研方面及實驗室。

不同頻率下電子密度對比圖：